早前举办的候到黄仁All-In科技峰会上，
黄仁勋还补充提到 ，勋马靠单位算力输出的惊人实际性能 ，马斯克也提到 ，欧美大概两到三年内 ，怕中把当前的国自算力缺口完全补齐 。
研光给出了一个粗略的刻机预判 ，当时他被问到中国什么时候能完全自主研发出先进光刻机 ，啥时斯克大概两到三年时间内，中国到2030年左右就能拿出完全自研的先进光刻系统 。中国本土企业就会爆发出极强的大规模量产能力 ，补齐当前阶段的算力供给缺口 。他进一步解释 ，中国就能依托自主可控的光刻技术与全链条芯片制造能力，会比绝大多数海外行业从业者预估得更快，几乎站在了全球顶尖梯队 。NVIDIA CEO黄仁勋也曾回应过主持人提出的相关问题 ，只是时间早晚的问题 。目前中国本土的AI大模型技术， 近期马斯克在公开访谈中给出了自己的判断 ， 两位全球科技行业头部企业的掌舵人先后给出的相似判断，一旦相关核心技术完成突破走向成熟，黄仁勋给出的判断是 ，也侧面印证了国内半导体全链条自主研发的推进速度远超外界此前的预期，从整体表现来看完成度非常出色 ， 就在之前接受央视财经专访的过程中 ，